Wszystko wskazuje na to, że Samsung jeszcze w tym roku zacznie instalować w swojej fabryce chipów pierwszy litograf High-NA EUV (Extreme Ultra Violet), którego producentem jest niderlandzka firma ASML.
To litograf TwinScan EXE:5000 wykorzystujący technologię ekstremalnego ultrafioletu, dzięki któremu Samsung będzie mógł uruchomić produkcję chipów kolejnej generacji. Chipy takie charakteryzują się jeszcze większym zgęszczeniem tranzystorów, dzięki czemu przetwarzają dane dużo szybciej.
Firma ASML wyprodukowała do tej pory zaledwie kilka sztuk litografów TwinScan EXE:5000 i ciągłe je ulepsza. Jeden z głównych rywali Samsunga (południowokoreańska firma SK hynix) zamierza kupić kolejny model litografu oznaczony symbolem TwinSca EXE:5200 i wykorzystać go do produkowania układów pamięci DRAM kolejnej generacji.
Zobacz również:
Pierwszym producentem chipów, który kupił od ASML litograf High-NA EUV, był Intel. TSMC również złożyło zamówienie na takie urządzenie, ale zamówienie to zostanie zrealizowane prawdopodobnie na początku przyszłego roku. Litografy High-NA EUV są bardzo drogie. Cena takiego urządzenia dochodzi do 400 mln USD, a jego instalowanie i wdrożenie do produkcji jest bardzo czasochłonnym procesem.
Zgłoś naruszenie/Błąd
Oryginalne źródło ZOBACZ
Dodaj kanał RSS
Musisz być zalogowanym aby zaproponować nowy kanal RSS